日本半導體 (晶片)、液晶技術研發機構「日本半導體能源研究所(SEL、Semiconductor Energy Laboratory)」已研發出可將耗電力壓縮至現行1/10以下水準的下代晶片量產技術,且臺灣晶圓代工大廠聯電 將搶先在2016年夏天開始生產採用上述技術的CPU、記憶體產品。
報導指出,SEL捨棄現行主流的矽、改用被稱為「IGZO」的氧化物半導體的特殊結晶體,藉由形成多層電子電路 (electronic circuit)、防止電流外漏,借此達到省電的效果,除可大幅改善智能手機等電子機器的電池壽命之外,也有望促進智能手錶等穿戴式裝置的普及速度。
據報導,除CPU、記憶體之外,上述新技術也可應用在感測器、邏輯積體電路 (IC)等廣泛半導體產品上,借此可將智能手錶等穿戴式裝置的電池壽命延長至現行的約10倍水準,而SLE計畫將該技術賣給全球半導體廠商、借此收取特許費。
報導並指出,今後半導體基礎材料可能將從現行主流的矽轉換成IGZO特殊結晶體,而美國英特爾(Intel)、南韓三星電子(Samsung Electronics)等全球半導體大廠也正持續關注此種技術動向。
地址:廣東省深圳市龍華新區龍華街道三聯社區中執NEX.one 2層206室 粵ICP備09060367号-1
深圳市貝斯特半導體有限公司 電話:0755-29767037 0755-29767034
Address: Room 206, level 2, NEX.one, Sanlian Community, Longhua Street, Longhua District, Shenzhen
Copyright: Shenzhen Best Semiconductor Co., Ltd. Tel :0755 -29767037 0755-29767034